
DX-RFM-13/27/40XXX系列射频电源匹配器一体机将射频电源和匹配器集成到一台设备中,结构紧凑,体积小,安装使用便捷。内置稳定可靠的信号源、功放模块及匹配器,能精确的测量入射和反射功率,可精准控制输出功率。广泛用于真空等离子体发生器、薄膜沉积等应用场景中。

DX-RFM-13/27/40XXX系列射频电源匹配器一体机将射频电源和匹配器集成到一台设备中,结构紧凑,体积小,安装使用便捷。内置稳定可靠的信号源、功放模块及匹配器,能精确的测量入射和反射功率,可精准控制输出功率。广泛用于真空等离子体发生器、薄膜沉积等应用场景中。
射频电源与匹配器一体化设计,结构紧凑,便于运输与安装
全数字化处理,匹配精度高,响应速度快
输出功率余量大,可长期稳定运行
能精确测量输出功率、反射功率及匹配阻抗
支持自动增益控制(AGC),实现输出功率精确调控
支持本地控制、10控制以及通过RS485和RJ45远程控制
采用先进功率放大技术,支持从最小到最大功率的连续调节
具有电弧抑制功能,能够快速检测电弧并进行智能灭弧处理
支持过载、过流及过热保护
技术指标
| 技术项目 | 参数指标 | ||
| 300W | 600W | ||
| 输入电源特性 | 输入电压 | AC 220V士10% | |
| 频率 | 50Hz/60Hz | ||
| 输出频率 | 13.56/27.12/40.68MHz | ||
| 输出功率调节范围 | 5W-300W | 10W-600W | |
| 额定输出功率 | 300W | 600W | |
| 最大反射功率 | 60W | 120W | |
| 效率 | ≥60%(Z=500Ω,额定输出) | ||
| 谐波 | <-50dBc | ||
| 杂散 | <-50dBc | ||
| 功率稳定度 | 1%设置功率或0.1%最大功率(取最优值) | ||
| 射频输出接口 | L29(母头) | ||
| 保护 | 功放电源过压 | - | 超过设定值时保护停机 |
| 功放电源过流 | - | 超过设定值时保护停机 | |
| 功放电源过热 | - | 超过设定值时保护停机 | |
| 功放过热 | 功放温度超过设定报警值时保护停机 | ||
| 反向功率超限 | 反射功率超过设定阀值保护限制输出功率 | ||
| 外部锁定 | 外部互锁接口未连接时保护停机 | ||
| 电弧检测保护 | 检测到电弧现象时进行智能灭弧处理 | ||
| 冷却方式 | 风冷 | ||
| 尺寸 | 深*宽*高(mm) | 435*483*132 | 500*483*132 |
| 匹配性能 | 反射功率 | <1% | |
| 匹配方式 | 自动/手动 | ||
| 匹配时间 | <2s | ||
半导体工艺设备、等离子体处理、材料表面改性、LED与太阳能光伏产业、科学实验、医疗美容、常压等离子体消毒清洗等
等离子体清洗、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、等离子体刻蚀、射频离子源、等离子体扩散、等离子体聚合溅射、薄膜沉积、硅晶镀膜等
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